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Fiche de : Michaele HERBST

Département :
Technique Analyses Instrumentation


Fonction :

Depuis novembre 2013, ma mission est de mettre en œuvre des techniques de dépôts pour l’élaboration de couches minces :

-Un appareil de dépôt DLI-CVD (Chemical Vapor Deposition-Direct Liquid Injection- ANNEALSYS MC-050) d’une valeur de 300k€.

-Un machine de dépôt par évaporation thermique, par bombardement électronique assisté plasma (ELETTRORAVA) d’une valeur de 360k€.

 Ma mission consiste à

  • prendre en main une nouvelle machine de dépôt :
  • développer et mettre en œuvre la machine d’évaporation qui permet de réaliser des dépôt thermiques (en particulier des dépôts d’or), des dépôts par bombardement électronique (dépôts métalliques Cr, Ti, Ni, Cu…) et des dépôts assistés par bombardement ionique (oxydes métalliques TiO2, SiO2…) et la  machine de DLI-CVD pour l’ étude de l’évolution des couches minces de TiO2 en fonction de différents paramètres (la température de dépôts, les précurseurs utilisés (TTIP, TDMAT…), le débit en O2…).
  • effectuer la maintenance, l’entretien et les réparations de niveau 3
  • gérer les consommables
  • former les personnels permanents (chercheurs et enseignants chercheurs) et non permanents (thésard, post-doc…)
  • assurer les prestations internes et externes


Localisation :

Bâtiment Mirande ARCEN bureau FS19

Tél. : 03 80 39 60 30
E-mail : michaele.herbst@u-bourgogne.fr

Recrutée en janvier 1999 sur concours externe, j’ai intégré le Laboratoire d’Etude des Matériaux Hors Equilibre (LEMHE) de l’Université Paris XI à Orsay, sur un poste de Technicienne en Sciences des matériaux/caractérisation (ITRF BAP B). J’étais affectée au service de travaux pratiques de Chimie générale, rapidement intégrée aux activités de recherche du laboratoire.

En 2003, le directeur d’Unité m’a confié la mise en œuvre puis de la gestion technique d’un nouvel appareil de diffraction de rayons X pour couches minces (X’pert PRO MRD – PANalytical). En 2006, je suis devenue responsable du service commun de diffraction de Rayons X pour les couches minces de la plateforme technique de l’Institut de Chimie Moléculaire et des Matériaux (ICMMO) à l’Université PARIS XI d’Orsay.

De 2011 à 2013, j’étais en disponibilité pour suivre mon conjoint à Dijon. J’ai été embauchée, le 21 janvier 2013, en contrat à durée déterminée de 7 mois sur un poste de préparatrice d’échantillons pour la microscopie électronique au Centre de Micro/Nano Caractérisation, de la plateforme technique ARCEN au Laboratoire Interdisciplinaire Carnot de Bourgogne (ICB) à l’Université de Bourgogne.

Le 1er septembre 2013, j’ai intégré par mutation le laboratoire ICB au sein du département INTERFACES. J’ai pris en main un appareil de dépôts PVD associé à un XPS in situ dont j’ai participé à la conception. En 2016, le responsable du département m’a confié la responsabilité technique d’un dispositif de croissance de couches par DLI-CVD après le départ de l’ingénieur responsable.

En septembre 2018, dans le cadre de la restructuration du laboratoire ICB, je me suis portée volontaire pour mettre en œuvre une machine de dépôts de couches minces (ELETTRORAVA), nouvellement acquise au sein du Centre de Nanofabrication de ARCEN. Le directeur du Laboratoire ICB m’en ont confié la responsabilité.

Jusqu’à fin 2016, ChipCAT PF7 (déc. 2012 – dec. 2016) ayant pour but le développement d’un nouveau type de catalyseurs sous forme de films minces pour des micro piles sur wafer de silicium. Ce projet réunissait ThunderNIL, LET optomechanika Praha et SolviCore Gm les Universités Charles de Prague, d’Erlangen, de Barcelone et de Trieste.

Depuis janvier 2020 :·

  • Plasmoniac qui a pour objectif l’intégration de composants plasmoniques compatibles CMOS. Ce projet réunit Aristotle University of Thessaloniki (Grèce), University of Southampton (UK), Swiss Federal Institute of Technology in Zurich et IBM Research Zurich GmbH (Suisse), Le Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies (C2N), Interuniversitair Micro-Elektronica Centrum (Belgique), AMO Gmbh et VPI Photonics (Allemagne), Mellanox Technologies (Israël).
  • Nebulla qui a pour objectif la stabilisation thermique d’un résonateur plasmonique. Ce projet réunit Aristotle University of Thessaloniki (Grèce), Swiss Federal Institute of Technology in Zurich et IBM Research GmbH et Ligentec (Suisse), Politecnico di Milano (Italie), Interuniversitair Micro-Elektronica Centrum-IMEC et Ghent University (Belgique), National and Technical University of Athens (Grèce), III-V Lab (France), Mellanox Technologies (Israël), ADVA (Allemagne).
  • Presentation of ICB laboratory technological platform- Herbst, A. Bouhelier, R. Chassagnon- SFNano C’Nano 2019
  • Sulfurization of Cu-In electrodeposited precursors for CuInS2-based solar cells-C. Broussillou, J. S. Jaime-Ferrer, S. Bodnar, E. Morin, M. Andrieux, Herbst, M. Jeandin – The international Photovoltaic Technical Conference 2010-Thin Film
  • Films de SrTiO3 déposés sur substrat planaire et tranchées par DLI-MOCVD pour des condensateurs intégrés sur silicium – M. Andrieux, C. Legros, Herbst, M. Brunet, E. Scheid, B. Servet, G. Garry – Nantes-Matériaux 2010.
  • ZrO2 Thin Films Grown On 2D and 3D Silicon Surfaces By DLI-MOCVD For Electronic Devices – Galicka-Fau, M.Andrieux, C. Legros, M. Herbst, I. Gallet, M. Brunet, E. Scheid, S. Schamm – Electrochemical Society Proceedings of the Fifteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition EUROCVD 17 2009.
  • SrZrO3 thin films grown by direct liquid injection MOCVD – Gasquères, I. Gallet, M. Herbst-Ghysel, M. Andrieux, M. Condat,V.G. Kessler, G.A.Seisenbaeva, S. Poissonnet – EUROCVD 15 2005.
  • De-hydration and phase transformations of MOCVD processed alumina coatings inverstigated by temperature induced deflection of dissymetrical samples – M. Huntz, M. Andrieux, M. Herbst-Ghysel, C. Haut, C. Vahlas, D. Samelor, M.M. Sovar, A.N. Gleizes – EUROCVD 15 2005.

 

 

 

  • WC-based thin films obtained by reactive r.f. magnetron sputtering using W target and methane gas- Nazon, M. Herbst, M.C. Marco de Lucas, S. Bourgeois, B. Domenichini -Thin solid film 2015
  • Phenomenological model for the formation of heterogeneous tracks in pyrochlores irradiated with swift heavy ions-G. Sattonnay, C. Grygiel, I. Monnet , C. Legros, Herbst, L. Thomé – Acta Materialia 2012.
  • Effect of composition on the behavior of pyrochlores irradiated with swift heavy ions – Sattonnay, S. Moll , L. Thome., C. Legros, A. Calvo, M. Herbst , C. Decorse, I. Monnet – Nuclear Instruments and Methods. B 2012.
  • Textured Tetragonal ZrO2 Film Grown on (100) Silicon Surface by DLI Metal-Organic Chemical Vapor Deposition- Jouilli, M. Andrieux , P.Ribot, M. Herbst, V. Ji – Journal of nanoscience and nanotechnology 2011.
  • Effect of composition on the behavior of pyrochlores irradiated with swift heavy ions -G. Sattonnay, S. Moll, L. Thomé, C. Legros, A. Calvo, Herbst, C. Decorse, I. Monnet – Nuclear Instruments and Methods.B 2011 Beam Interactions with Materials and Atoms.
  • Characterization of ZrO2 thin films deposited by MOCVD for high-density 3D capacitors– Brunet, E. Scheid, K. Galicka-Fau, M. Andrieux, C. Legros, I. Gallet, M. Herbst, S. Schamm-Microelectronic Engineering 2009.
  • Heavy-ion irradiation of pyrochlore oxides: comparison between low and high energy regimes – G. Sattonnay, C. Legros, Herbst, S. Moll, L. Thomé, F. Garrido, J.M. Costantini, C.Trautmann – Nuclear Intruments ans Methods B 2008.
  • Mechanical stresses induced in ceramic oxides by ion irradiation – Sattonnay Gaël, Moll Sandra, Herbst, C.Legros, J.M.Costantini, L. Thomé – Nuclear Intruments ans Methods B 2008.
  • Thickness determination of monolayered or multilayered SrZrO3 thin films using both X-ray reflectometry and SIMS techniques – K. Galicka-Fau, C. Legros, M. Andrieux, Herbst, I. Gallet, M. Condat, O. Durand, B. Servet – Thin Solid Films 2008.
  • Structural, magnetic and electrical properties of a perovskite containing divalent europium EuZrO3 – Viallet, J.-F. Marucco, J. Saint, M. Herbst, N. Dragoe – Journal of Alloys and Compounds 2008.
  • Effect of the ambient atmosphere on the surface reactivity of materials for the realization of reference mass standards – P.A. Meury, A.M. Huntz, R. Molins, Herbst, C. Séverac – Metrologia 2007.
  • Oxidation of AISI 304 and AISI 439 stainless steels – A.M. Huntz, C. Severac, Herbst, A. Reckmann, C. Haut, F. Resende, A.C.S Sabioni. – Materials Science and Engineering A 2007.
  • Perovskite thin films grown by direct liquid injection MOCVD – Andrieux, C. Gasquères, C. Legros, I. Gallet, M. Herbst, M. Condat, V.G. Kessler, G.A. Seisenbaeva, O. Heintz and S. Poissonnet – Applied Surface Science 2007.
  • Stress field induced by swift heavy ion irradiation in cubic yttria stabilized zirconia – Sattonnay, M. Lahrichi, M. Herbst, F. Garrido, and L. Thomé – Journal of applied Physics 2007.
  • Oxidation of AISI 304 and AISI 439 stainless steels – M. Huntz, A. Reckmann, C. Haut, C. Sévérac, M. Herbst, F.C.T. Resende and A.C.S. Sabioni – Materials Science and Engineering 2007.
  • Stress driven phase transformation in ZrO2 film – Benali, M. Herbst-Ghysel, I. Gallet, A.M. Huntz and M. Andrieux – Applied Surface Science 2006.
  • Dual source chemical vapour deposition of strontium and zirconium b-diketonates for strontium zirconate perovskite films – Andrieux, V. Viallet, M. Le Stum, L. Rapenne, M. Ghysel, C. Haut, M. Condat – Applied Surface Science 2004.
  • Synthesis, characterization, electrical and magnetic properties of CrTa2O6 and CrNb2O6– Guillen-Viallet, J. F. Marucco and M. Ghysel-Journal of Alloys and Compounds 2001.

 

 

 

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  • prendre en main une nouvelle machine de dépôt :
  • développer et mettre en œuvre la machine d’évaporation qui permet de réaliser des dépôt thermiques (en particulier des dépôts d’or), des dépôts par bombardement électronique (dépôts métalliques Cr, Ti, Ni, Cu…) et des dépôts assistés par bombardement ionique (oxydes métalliques TiO2, SiO2…) et la  machine de DLI-CVD pour l’ étude de l’évolution des couches minces de TiO2 en fonction de différents paramètres (la température de dépôts, les précurseurs utilisés (TTIP, TDMAT…), le débit en O2…).
  • effectuer la maintenance, l’entretien et les réparations de niveau 3
  • gérer les consommables
  • former les personnels permanents (chercheurs et enseignants chercheurs) et non permanents (thésard, post-doc…)
  • assurer les prestations internes et externes
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carriere:
Recrutée en janvier 1999 sur concours externe, j’ai intégré le Laboratoire d’Etude des Matériaux Hors Equilibre (LEMHE) de l’Université Paris XI à Orsay, sur un poste de Technicienne en Sciences des matériaux/caractérisation (ITRF BAP B). J’étais affectée au service de travaux pratiques de Chimie générale, rapidement intégrée aux activités de recherche du laboratoire. En 2003, le directeur d’Unité m’a confié la mise en œuvre puis de la gestion technique d’un nouvel appareil de diffraction de rayons X pour couches minces (X’pert PRO MRD - PANalytical). En 2006, je suis devenue responsable du service commun de diffraction de Rayons X pour les couches minces de la plateforme technique de l’Institut de Chimie Moléculaire et des Matériaux (ICMMO) à l’Université PARIS XI d’Orsay. De 2011 à 2013, j’étais en disponibilité pour suivre mon conjoint à Dijon. J’ai été embauchée, le 21 janvier 2013, en contrat à durée déterminée de 7 mois sur un poste de préparatrice d’échantillons pour la microscopie électronique au Centre de Micro/Nano Caractérisation, de la plateforme technique ARCEN au Laboratoire Interdisciplinaire Carnot de Bourgogne (ICB) à l’Université de Bourgogne. Le 1er septembre 2013, j’ai intégré par mutation le laboratoire ICB au sein du département INTERFACES. J’ai pris en main un appareil de dépôts PVD associé à un XPS in situ dont j’ai participé à la conception. En 2016, le responsable du département m’a confié la responsabilité technique d’un dispositif de croissance de couches par DLI-CVD après le départ de l’ingénieur responsable. En septembre 2018, dans le cadre de la restructuration du laboratoire ICB, je me suis portée volontaire pour mettre en œuvre une machine de dépôts de couches minces (ELETTRORAVA), nouvellement acquise au sein du Centre de Nanofabrication de ARCEN. Le directeur du Laboratoire ICB m’en ont confié la responsabilité.
projets:
Jusqu’à fin 2016, ChipCAT PF7 (déc. 2012 - dec. 2016) ayant pour but le développement d'un nouveau type de catalyseurs sous forme de films minces pour des micro piles sur wafer de silicium. Ce projet réunissait ThunderNIL, LET optomechanika Praha et SolviCore Gm les Universités Charles de Prague, d'Erlangen, de Barcelone et de Trieste. Depuis janvier 2020 :·
  • Plasmoniac qui a pour objectif l’intégration de composants plasmoniques compatibles CMOS. Ce projet réunit Aristotle University of Thessaloniki (Grèce), University of Southampton (UK), Swiss Federal Institute of Technology in Zurich et IBM Research Zurich GmbH (Suisse), Le Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies (C2N), Interuniversitair Micro-Elektronica Centrum (Belgique), AMO Gmbh et VPI Photonics (Allemagne), Mellanox Technologies (Israël).
  • Nebulla qui a pour objectif la stabilisation thermique d’un résonateur plasmonique. Ce projet réunit Aristotle University of Thessaloniki (Grèce), Swiss Federal Institute of Technology in Zurich et IBM Research GmbH et Ligentec (Suisse), Politecnico di Milano (Italie), Interuniversitair Micro-Elektronica Centrum-IMEC et Ghent University (Belgique), National and Technical University of Athens (Grèce), III-V Lab (France), Mellanox Technologies (Israël), ADVA (Allemagne).
communications:
  • Presentation of ICB laboratory technological platform- Herbst, A. Bouhelier, R. Chassagnon- SFNano C’Nano 2019
  • Sulfurization of Cu-In electrodeposited precursors for CuInS2-based solar cells-C. Broussillou, J. S. Jaime-Ferrer, S. Bodnar, E. Morin, M. Andrieux, Herbst, M. Jeandin - The international Photovoltaic Technical Conference 2010-Thin Film
  • Films de SrTiO3 déposés sur substrat planaire et tranchées par DLI-MOCVD pour des condensateurs intégrés sur silicium - M. Andrieux, C. Legros, Herbst, M. Brunet, E. Scheid, B. Servet, G. Garry - Nantes-Matériaux 2010.
  • ZrO2 Thin Films Grown On 2D and 3D Silicon Surfaces By DLI-MOCVD For Electronic Devices - Galicka-Fau, M.Andrieux, C. Legros, M. Herbst, I. Gallet, M. Brunet, E. Scheid, S. Schamm - Electrochemical Society Proceedings of the Fifteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition EUROCVD 17 2009.
  • SrZrO3 thin films grown by direct liquid injection MOCVD - Gasquères, I. Gallet, M. Herbst-Ghysel, M. Andrieux, M. Condat,V.G. Kessler, G.A.Seisenbaeva, S. Poissonnet - EUROCVD 15 2005.
  • De-hydration and phase transformations of MOCVD processed alumina coatings inverstigated by temperature induced deflection of dissymetrical samples - M. Huntz, M. Andrieux, M. Herbst-Ghysel, C. Haut, C. Vahlas, D. Samelor, M.M. Sovar, A.N. Gleizes - EUROCVD 15 2005.
     
publications:
  • WC-based thin films obtained by reactive r.f. magnetron sputtering using W target and methane gas- Nazon, M. Herbst, M.C. Marco de Lucas, S. Bourgeois, B. Domenichini -Thin solid film 2015
  • Phenomenological model for the formation of heterogeneous tracks in pyrochlores irradiated with swift heavy ions-G. Sattonnay, C. Grygiel, I. Monnet , C. Legros, Herbst, L. Thomé - Acta Materialia 2012.
  • Effect of composition on the behavior of pyrochlores irradiated with swift heavy ions - Sattonnay, S. Moll , L. Thome., C. Legros, A. Calvo, M. Herbst , C. Decorse, I. Monnet - Nuclear Instruments and Methods. B 2012.
  • Textured Tetragonal ZrO2 Film Grown on (100) Silicon Surface by DLI Metal-Organic Chemical Vapor Deposition- Jouilli, M. Andrieux , P.Ribot, M. Herbst, V. Ji - Journal of nanoscience and nanotechnology 2011.
  • Effect of composition on the behavior of pyrochlores irradiated with swift heavy ions -G. Sattonnay, S. Moll, L. Thomé, C. Legros, A. Calvo, Herbst, C. Decorse, I. Monnet - Nuclear Instruments and Methods.B 2011 Beam Interactions with Materials and Atoms.
  • Characterization of ZrO2 thin films deposited by MOCVD for high-density 3D capacitors- Brunet, E. Scheid, K. Galicka-Fau, M. Andrieux, C. Legros, I. Gallet, M. Herbst, S. Schamm-Microelectronic Engineering 2009.
  • Heavy-ion irradiation of pyrochlore oxides: comparison between low and high energy regimes – G. Sattonnay, C. Legros, Herbst, S. Moll, L. Thomé, F. Garrido, J.M. Costantini, C.Trautmann - Nuclear Intruments ans Methods B 2008.
  • Mechanical stresses induced in ceramic oxides by ion irradiation - Sattonnay Gaël, Moll Sandra, Herbst, C.Legros, J.M.Costantini, L. Thomé - Nuclear Intruments ans Methods B 2008.
  • Thickness determination of monolayered or multilayered SrZrO3 thin films using both X-ray reflectometry and SIMS techniques – K. Galicka-Fau, C. Legros, M. Andrieux, Herbst, I. Gallet, M. Condat, O. Durand, B. Servet - Thin Solid Films 2008.
  • Structural, magnetic and electrical properties of a perovskite containing divalent europium EuZrO3 - Viallet, J.-F. Marucco, J. Saint, M. Herbst, N. Dragoe - Journal of Alloys and Compounds 2008.
  • Effect of the ambient atmosphere on the surface reactivity of materials for the realization of reference mass standards - P.A. Meury, A.M. Huntz, R. Molins, Herbst, C. Séverac - Metrologia 2007.
  • Oxidation of AISI 304 and AISI 439 stainless steels – A.M. Huntz, C. Severac, Herbst, A. Reckmann, C. Haut, F. Resende, A.C.S Sabioni. - Materials Science and Engineering A 2007.
  • Perovskite thin films grown by direct liquid injection MOCVD - Andrieux, C. Gasquères, C. Legros, I. Gallet, M. Herbst, M. Condat, V.G. Kessler, G.A. Seisenbaeva, O. Heintz and S. Poissonnet - Applied Surface Science 2007.
  • Stress field induced by swift heavy ion irradiation in cubic yttria stabilized zirconia - Sattonnay, M. Lahrichi, M. Herbst, F. Garrido, and L. Thomé - Journal of applied Physics 2007.
  • Oxidation of AISI 304 and AISI 439 stainless steels - M. Huntz, A. Reckmann, C. Haut, C. Sévérac, M. Herbst, F.C.T. Resende and A.C.S. Sabioni - Materials Science and Engineering 2007.
  • Stress driven phase transformation in ZrO2 film - Benali, M. Herbst-Ghysel, I. Gallet, A.M. Huntz and M. Andrieux - Applied Surface Science 2006.
  • Dual source chemical vapour deposition of strontium and zirconium b-diketonates for strontium zirconate perovskite films - Andrieux, V. Viallet, M. Le Stum, L. Rapenne, M. Ghysel, C. Haut, M. Condat - Applied Surface Science 2004.
  • Synthesis, characterization, electrical and magnetic properties of CrTa2O6 and CrNb2O6- Guillen-Viallet, J. F. Marucco and M. Ghysel-Journal of Alloys and Compounds 2001.
     
enseignements:
administration:
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