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Centre de Nanofabrication (CNF)

Le Centre de NanoFabrication (CNF) est une composante de la plateforme technique ARCEN-CARNOT. Il bénéficie du soutien du Réseau français des centrales de Nanofabrication Renatech+ du CNRS, en tant que « centrale de proximité ».

Les équipements d’élaboration et de caractérisation du CNF sont mis à disposition des chercheurs, ingénieurs, techniciens et étudiants du laboratoire dans le cadre de projets nationaux et européens, ainsi qu’à l’ensemble de la communauté scientifique (centres de recherche publics et privés, laboratoires universitaires, entreprises privés, SATT…) par le biais de prestations de service ou de droits d’accès après formation.

Ces équipements sont répartis en 3 pôles : Couches minces, Lithographies et Gravures, Caractérisations Nanofab

Laurent Markey
Aurore Andrieux

Contact

laurent.markey[at]u-bourgogne.fr
Tél : 03 80 39 68 36
aurore.andrieux[at]u-bourgogne.fr
Tél : 03 80 39 60 30

Couches minces

Le parc de machines de dépôt de couches minces du CNF est composé de :

  • 1 bâti d’évaporation thermique (ME300, Plassys)
  • 2 bâtis d’évaporation e-beam dont 1 avec assistance ionique et source thermique (MEB400, Plassys et Elettrorava)
  • 2 bâtis de pulvérisation cathodique dont 1 possédant une source d’évaporation thermique (MP300 et MEP300, Plassys)
  • 1 bâti de CVD assisté par plasma avec couplage inductif (Plasmapro100 Cobra ICPCVD, Oxford Instruments)

Lithographies et gravures

Le CNF dispose d’une salle blanche de 45 m², avec les équipements nécessaires pour le dépôt et la structuration de résines de lithographie :

  • Spin-coaters, plaques chauffantes
  • 2 hottes de chimie pour dépôts, attaques chimiques et nettoyage par ultrasons
  • 1 aligneur de masque pour la lithographie UV (MJB4, Süss MicroTec)
  • 1 nanomasqueur électronique (Pioneer, Raith)
  • 1 Métalliseur (Edwards), 1 Plasma cleaner (Harrick)

Ainsi que pour la préparation de surface et la gravure de couches minces :

  • 1 bâti de gravure RIE avec couplage inductif (Plasmalab System100 RIE-ICP, Oxford Instruments)
  • Un usineur ionique (MU400, Plassys) situé dans une salle annexe complète la liste des équipements de ce pôle.

Caractérisations Nanofab

Les réalisations sont souvent assorties de caractérisations (composition, structure, propriétés physiques) pouvant être réalisées par le CNF lui-même ou par d’autres composantes de la plateforme (cf. centre CNMC)

Les outils de caractérisation spécifiques pour le contrôle et la validation des process de nanofabrication sont gérés par les membres du CNF et localisés à proximité immédiate des équipements :

  • 1 spectromètre en réflexion pour le contrôle d’épaisseur des résines, des dépôts et des gravures
  • 1 MEB (JSM-6500F, JEOL) pour le contrôle des surfaces et des structures (caractéristiques dimensionnelles des structures, état de surface)
  • 1 AFM pour la mesure de rugosité et des caractéristiques dimensionnelles des structures
  • 1 microscope optique à fort grossissement avec caméra pour les observations de routine
  • 1 ellipsomètre spectroscopique pour l’estimation de l’indice optique des couches
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