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Fiche de : Isabelle GALLET

Département :
Technique Analyses Instrumentation


Fonction :

Assistante Ingénieur plateforme nano-fabrication

  • Responsable des bâtis de Gravure RIE et IBE
  • Développement de protocoles de fabrication (résine, lithographie UV et e-beam, gravure)


Localisation :

ARCEN

bureau FS015

 

Tél. : 0380399172
E-mail : isabelle.gallet@u-bourgogne.fr

01/08/2018   Assistante Ingénieur Nano-fabrication CNRS ICB

  • Responsable des bâtis de Gravure RIE (oxford plasmalab 100) et IBE (Plassys MU400)
  • Développement de protocoles de fabrication (résine, lithographie UV (MJB4 Mask aligner de Süss Microtech) et e-beam (RAITH Pioneer) , gravure)
  • Caractérisation MEB (JEOL JSM7600F)
  • Membre du réseau RENATECH+
  • Encadrement stagiaires M1, M2, L3

01/08/2009 au 01/08/2018   Assistante Ingénieur Métallurgie des poudres CNRS ICB

  • Broyage sur broyeur planétaire (P4 de Fritsch)
  • Projets en relation avec des industriels (SAFRAN, RAILTECH) (conception de manipulations, validation de protocoles expérimentaux, synthèse à haute température par auto-propagation SHS)
  • Synthèse par frittage (SPS) de matériaux innovants
  • Caractérisation structurale, microstructurale
  • Assistante de prévention
  • Encadrement stagiaires M1, M2, L3

01/01/2004 au 01/08/2009  Assistante Ingénieur couches minces, CNRS ICMMO

  • Responsable d’un réacteur industriel de MOCVD (Alcatel)
  • Conception d’un réacteur MOCVD de volume plus petit.
  • Développement de films minces, essais de nouveaux précurseurs chimiques.
  • Caractérisation (MEB, FEG, nano indentation, UV-visible, RX rasants, FTIR ; et des précurseurs par ATG)
  • Enseignement et coordination des TP « Elaboration de couches minces par MOCVD » 3ème année de l’Institut de Formation d’Ingénieur de Paris Sud (IFIPS) (années 2004-2005 et 2005-2006).
  • Assistante de prévention

 01/11/1998-01/01/2004  Assistant Ingénieur instrumentation CNRS Synchrotron LURE, 

  • Technicienne sur un poste d’expérience de diffraction de rayons X en incidence rasante.
    • Maintenance, étalonnage et mise en route des appareils de mesure dans un environnement ultra-vide (spectromètre de masse, AES, LEED, canon à ions, évaporateurs, diffractomètre, MBE…).
    • Réalisation d’une enceinte d’expérience sous ultra-vide de type MBE pour l’évaporation de couches minces de PTCDA (3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride) sur du cuivre (112) par pulvérisation cathodique.
    • Gestion du laboratoire de préparation des échantillons (décapage, dégraissage de pièces).
    • Préparation des échantillons  (bombardements ioniques, recuits) et contrôle au LEED et à l’AES.
    • Dépôts de couches minces d’argent sur du cuivre (112) par pulvérisation cathodique.
    • Accueil des utilisateurs, montage et alignement des échantillons, assistance technique.
  • Gallet, F. Naimi, H. Couque, F. Bernard «Influence de l’atmosphère lors du frittage par SPS d’une poudre de cuivre broyée sur les propriétés en traction » PMF 2017 – Toulouse, France – 2017 (poster) Auteur
  • Bernard, L. Minier, F. Naimi, S. Le Gallet, I. Gallet, N. Richard, JP. Chateau-Cornu «Développements récents et perspectives du frittage sous charge » Colloque : « la métallurgie, quel avenir ? » – Saint Etienne – 2016 (Oral) Collaborateur
  • Galicka-Fau , M. Andrieux, C. Legros, M. Herbst-Ghysel, I. Gallet, M. Brunet, E. Scheid, S. Schamm « ZrO2 thin films grown on 2D and 3D silicon surfaces by DLI-MOCVD for electronic devices » EuroCVD 17-Vienne-Autriche-2009 (POSTER) Collaborateur
  • Jouili, M. Andrieux and I. Gallet « Texture and residual stress analysis by ZRD on metastable tetragonal zirconia films obtained by MOCVD » EuroCVD17- Vienne-Autriche-2009 (POSTER) Collaborateur
  • Gasqueres, I. Gallet, M. Herbst-Ghysel, M. Andrieux, M. Condat, VG. Kessler, GA. Seisenbaeva, S. Poissonnet, « SrZrO3 thin films grown by direct liquid injection MOCVD ». EuroCVD 15-Bochum- Allemagne-2005(POSTER) Collaborateur
  • Bernard, F. Naimi, I. Gallet, M. Ariane, H. Couque, R. Kirchner,J. Hennicke, F. Barthelemy, Homogeneous Large Disk of W-alloys Produced by Hybrid-SPS, proceeding du congrés World PM2016, Hambourg
  • Magali Brunet, Emmanuel Scheid, Karolina Galicka-Fau, Michel Andrieux, Corinne Legros, Isabelle Gallet, Michaële Herbst, Sylvie Schamm, Characterization of ZrO2 thin films deposited by MOCVD for high-density 3D capacitors, Microelectronic Engineering Volume 86, Issue 10, October 2009, Pages 2034-2037
  • Galicka-Fau, C. Legros, M. Andrieux, M. Herbst-Ghysel, I. Gallet, M. Condat, O. Durand, B. Servet, Thickness determination of SrZrO3 thin films using both X-ray reflectometry and SIMS techniques ». Thin Solid Films, Volume 516, Issue 22, 30 September 2008, Pages 7967-7973
  • Andrieux, C. Gasquères, C. Legros, I. Gallet, M. Herbst-Ghysel, M. Condat, V.G. Kessler, G.A.Seisenbaeva, O. Heintz, S. Poissonnet, Perovskite thin films grown by direct liquid injection MOCVD » Applied Surface Science, Volume 253, Issue 23, 30 September 2007, Pages 9091-9098
  • Benali, M. Herbst Ghysel, I. Gallet, A.M. Huntz, M. Andrieux »Stress driven phase transformation in ZrO2 films ». Applied Surface Science, Volume 253, Issue 3, 30 November 2006, Pages 1222-1226
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01/08/2018   Assistante Ingénieur Nano-fabrication CNRS ICB
  • Responsable des bâtis de Gravure RIE (oxford plasmalab 100) et IBE (Plassys MU400)
  • Développement de protocoles de fabrication (résine, lithographie UV (MJB4 Mask aligner de Süss Microtech) et e-beam (RAITH Pioneer) , gravure)
  • Caractérisation MEB (JEOL JSM7600F)
  • Membre du réseau RENATECH+
  • Encadrement stagiaires M1, M2, L3
01/08/2009 au 01/08/2018   Assistante Ingénieur Métallurgie des poudres CNRS ICB
  • Broyage sur broyeur planétaire (P4 de Fritsch)
  • Projets en relation avec des industriels (SAFRAN, RAILTECH) (conception de manipulations, validation de protocoles expérimentaux, synthèse à haute température par auto-propagation SHS)
  • Synthèse par frittage (SPS) de matériaux innovants
  • Caractérisation structurale, microstructurale
  • Assistante de prévention
  • Encadrement stagiaires M1, M2, L3
01/01/2004 au 01/08/2009  Assistante Ingénieur couches minces, CNRS ICMMO
  • Responsable d’un réacteur industriel de MOCVD (Alcatel)
  • Conception d'un réacteur MOCVD de volume plus petit.
  • Développement de films minces, essais de nouveaux précurseurs chimiques.
  • Caractérisation (MEB, FEG, nano indentation, UV-visible, RX rasants, FTIR ; et des précurseurs par ATG)
  • Enseignement et coordination des TP « Elaboration de couches minces par MOCVD » 3ème année de l’Institut de Formation d’Ingénieur de Paris Sud (IFIPS) (années 2004-2005 et 2005-2006).
  • Assistante de prévention
 01/11/1998-01/01/2004  Assistant Ingénieur instrumentation CNRS Synchrotron LURE, 
  • Technicienne sur un poste d’expérience de diffraction de rayons X en incidence rasante.
    • Maintenance, étalonnage et mise en route des appareils de mesure dans un environnement ultra-vide (spectromètre de masse, AES, LEED, canon à ions, évaporateurs, diffractomètre, MBE…).
    • Réalisation d’une enceinte d’expérience sous ultra-vide de type MBE pour l’évaporation de couches minces de PTCDA (3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride) sur du cuivre (112) par pulvérisation cathodique.
    • Gestion du laboratoire de préparation des échantillons (décapage, dégraissage de pièces).
    • Préparation des échantillons  (bombardements ioniques, recuits) et contrôle au LEED et à l’AES.
    • Dépôts de couches minces d’argent sur du cuivre (112) par pulvérisation cathodique.
    • Accueil des utilisateurs, montage et alignement des échantillons, assistance technique.
projets:
communications:
  • Gallet, F. Naimi, H. Couque, F. Bernard «Influence de l’atmosphère lors du frittage par SPS d’une poudre de cuivre broyée sur les propriétés en traction » PMF 2017 – Toulouse, France – 2017 (poster) Auteur
  • Bernard, L. Minier, F. Naimi, S. Le Gallet, I. Gallet, N. Richard, JP. Chateau-Cornu «Développements récents et perspectives du frittage sous charge » Colloque : « la métallurgie, quel avenir ? » - Saint Etienne – 2016 (Oral) Collaborateur
  • Galicka-Fau , M. Andrieux, C. Legros, M. Herbst-Ghysel, I. Gallet, M. Brunet, E. Scheid, S. Schamm "ZrO2 thin films grown on 2D and 3D silicon surfaces by DLI-MOCVD for electronic devices" EuroCVD 17-Vienne-Autriche-2009 (POSTER) Collaborateur
  • Jouili, M. Andrieux and I. Gallet "Texture and residual stress analysis by ZRD on metastable tetragonal zirconia films obtained by MOCVD" EuroCVD17- Vienne-Autriche-2009 (POSTER) Collaborateur
  • Gasqueres, I. Gallet, M. Herbst-Ghysel, M. Andrieux, M. Condat, VG. Kessler, GA. Seisenbaeva, S. Poissonnet, "SrZrO3 thin films grown by direct liquid injection MOCVD". EuroCVD 15-Bochum- Allemagne-2005(POSTER) Collaborateur
publications:
  • Bernard, F. Naimi, I. Gallet, M. Ariane, H. Couque, R. Kirchner,J. Hennicke, F. Barthelemy, Homogeneous Large Disk of W-alloys Produced by Hybrid-SPS, proceeding du congrés World PM2016, Hambourg
  • Magali Brunet, Emmanuel Scheid, Karolina Galicka-Fau, Michel Andrieux, Corinne Legros, Isabelle Gallet, Michaële Herbst, Sylvie Schamm, Characterization of ZrO2 thin films deposited by MOCVD for high-density 3D capacitors, Microelectronic Engineering Volume 86, Issue 10, October 2009, Pages 2034-2037
  • Galicka-Fau, C. Legros, M. Andrieux, M. Herbst-Ghysel, I. Gallet, M. Condat, O. Durand, B. Servet, Thickness determination of SrZrO3 thin films using both X-ray reflectometry and SIMS techniques". Thin Solid Films, Volume 516, Issue 22, 30 September 2008, Pages 7967-7973
  • Andrieux, C. Gasquères, C. Legros, I. Gallet, M. Herbst-Ghysel, M. Condat, V.G. Kessler, G.A.Seisenbaeva, O. Heintz, S. Poissonnet, Perovskite thin films grown by direct liquid injection MOCVD" Applied Surface Science, Volume 253, Issue 23, 30 September 2007, Pages 9091-9098
  • Benali, M. Herbst Ghysel, I. Gallet, A.M. Huntz, M. Andrieux"Stress driven phase transformation in ZrO2 films". Applied Surface Science, Volume 253, Issue 3, 30 November 2006, Pages 1222-1226
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